Disponibilidad: | |
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Cantidad: | |
El espectrofotómetro de absorción atómica se usa ampliamente en el análisis de elementos principales y traza en metalurgia, geología, minería, petróleo, industria ligera, agricultura, medicina, salud, alimentación y monitoreo ambiental.
Equipado con un completo sistema de software y hardware, es muy inteligente, fácil de usar y de operar, y cumple con los requisitos de gestión de autoridades, seguimiento de auditorías y otros requisitos.
Tiene atomizadores de horno de llama y de grafito. Los dos modos de prueba se pueden cambiar libremente y combinar automáticamente.
Soporte de lámpara giratorio de posición de ocho lámparas completamente automático, conmutación automática, configuración libre de lámpara de trabajo/lámpara de precalentamiento, llamada automática de parámetros de análisis óptimos y condiciones de análisis.
Sistema óptico de reflexión total, acromático de banda completa, escaneo automático de longitud de onda, búsqueda automática de picos.
Tanto el sistema de horno de llama como el de grafito tienen lámparas de deuterio y sustracción de fondo autocebante para satisfacer las necesidades de detección de muestras de matrices complejas.
Quemador completo de titanio, combustión estable y equilibrio térmico rápido.
La tecnología del horno de grafito de calentamiento longitudinal logra una temperatura uniforme del tubo de grafito.
Sistemas de protección múltiples confiables, monitoreo de llamas en tiempo real, monitoreo y protección de fugas de acetileno, monitoreo en tiempo real de presión anormal y monitoreo de agua de refrigeración.
El sistema de atomización del horno de grafito tiene funciones de alarma por flujo insuficiente de agua de refrigeración, presión insuficiente de argón, temperatura excesiva del horno de grafito, temperatura anormal de la fuente de alimentación y mal contacto durante la instalación del tubo de grafito, y corta automáticamente el programa de aumento de temperatura para garantizar la seguridad. del proceso de operación y uso.
Modelo | SP-AA3638 | SP-AA3668 | |
---|---|---|---|
Sistema óptico | Sistema óptico | Haz único | Doble Haz |
monocromador | Tipo Czerny-Turner, distancia focal de 350 mm. | ||
Rejilla | Rejilla 1800 líneas/mm, longitud de onda de centelleo 250 nm | ||
Ancho de banda espectral (nm) | 0,1, 0,2, 0,4, 0,7, 1,4, 2 nm | ||
Selección de hendidura automatizada | |||
Rango de longitud de onda (nm) | 185-900nm | ||
Precisión de longitud de onda (nm) | 0,20 nanómetro | 0,15 nm | |
Repetibilidad de longitud de onda (nm) | ≤0,10 nm | ≤0,05 nm | |
Desviación del ancho de banda espectral | ±0,02 nm | ||
Soporte de lámpara | 8 | ||
Tipo de lámpara de elemento | Lámpara Cu, lámpara Cd (accesorio estándar) | ||
La lámpara de otro elemento es un accesorio opcional. | |||
Rendimiento fotométrico | Modo de lectura | Transmitancia, absorbancia, concentración. | |
Rango fotométrico | 0-125%, -0,1-3,00A | ||
Deriva estática de la línea base (Cu) | ±0,003 A/30 min. | ±0,003 A/30 min. | |
Deriva dinámica de la línea base (Cu) | ±0,005 A/15 min. | ±0,005 A/15 min. | |
Corrección de fondo | Lámpara de deuterio≥ 40x (1Abs), autocebante≥ 80x (1Abs) (opcional) | Lámpara de deuterio≥ 40x (1Abs), autocebante≥ 80x (1Abs) (opcional) | |
Sistema de llama | Concentración característica (Cu) | ≤0.035ug/ml | ≤0.035ug/ml |
Límite de detección (Cu) | ≤0,006 ug/ml | ≤0,004 ug/ml | |
Repetibilidad (Cu) | RSD≤0,6% | RSD≤0,5% | |
Control de flujo de acetileno | Automático de 12 niveles | ||
Control de asistencia de aire | Automático de 4 niveles | ||
Elevación del quemador | Elevación automática | ||
Cabeza del quemador | Quemador de titanio de 100 mm. | ||
Nebulizador | Nebulizador de vidrio de alta eficiencia | ||
Cámara de pulverización | Cámara de pulverización de material resistente a la corrosión | ||
Protección de seguridad | Corta automáticamente el gas en caso de baja presión, corte de energía, llama o quemador no coincidente. | ||
Horno de grafito | Cantidad característica | Cd≤0.8pg,Cu≤20pg | Cd≤0.8pg,Cu≤20pg |
Límite de detección | Cd≤1.0pg,Cu≤10pg | Cd≤0.8pg, Cu≤5pg | |
Repetibilidad (Cd) | RSD≤3% | RSD≤2,5% | |
Rango de calentamiento del horno de grafito | Temperatura ambiente-3000 ℃ | ||
Gama de calefacción de alta potencia | 1500-3000℃ | ||
Pendiente y tiempo de espera | 1s-255s | ||
Tasa de calentamiento | Velocidad máxima de calentamiento 2000°C/s | ||
Modo de calentamiento por atomización | Calefacción controlada por luz, Calefacción controlada por tiempo, Calefacción general | ||
Tubería exterior de flujo de gas protector | 1 L/min | ||
Flujo de gas protector dentro de la tubería | 4 velocidades ajustables (flujo de 0, 50, 200, 250 ml/min) | ||
Protección de seguridad | Flujo de agua de refrigeración, Presión del gas protector, Temperatura del cuerpo del horno, Temperatura de la fuente de alimentación, Alarma de instalación del horno de grafito | ||
Proceso de datos | Método de medición | Método de medición | |
Método de cálculo de la concentración | Método de cálculo de la concentración. | ||
Repetir tiempos de medición | Repetir tiempos de medición | ||
Impresión de informes | Impresión de informes | ||
Otro | Computadora | Conexión externa | |
Temperatura ambiente | 10℃-30℃ | ||
Humedad ambiental | 40%-85% | ||
Fuente de alimentación | 220V, 50/60HZ | ||
Tamaño externo (AnxPrxAl)(mm) | 830x650x560 | ||
Tamaño de envío (Ancho x Fondo x Alto) (mm) | 1000x780x810 | ||
NO/GW (kg) | 110/130 | ||
Accesorio estándar | Software, Cd Lámpara de cátodo hueco, Pipeta | ||
Accesorio opcional | Computadora, impresora, inyector automático, sistema de recirculación de agua de refrigeración |
El espectrofotómetro de absorción atómica se usa ampliamente en el análisis de elementos principales y traza en metalurgia, geología, minería, petróleo, industria ligera, agricultura, medicina, salud, alimentación y monitoreo ambiental.
Equipado con un completo sistema de software y hardware, es muy inteligente, fácil de usar y de operar, y cumple con los requisitos de gestión de autoridades, seguimiento de auditorías y otros requisitos.
Tiene atomizadores de horno de llama y de grafito. Los dos modos de prueba se pueden cambiar libremente y combinar automáticamente.
Soporte de lámpara giratorio de posición de ocho lámparas completamente automático, conmutación automática, configuración libre de lámpara de trabajo/lámpara de precalentamiento, llamada automática de parámetros de análisis óptimos y condiciones de análisis.
Sistema óptico de reflexión total, acromático de banda completa, escaneo automático de longitud de onda, búsqueda automática de picos.
Tanto el sistema de horno de llama como el de grafito tienen lámparas de deuterio y sustracción de fondo autocebante para satisfacer las necesidades de detección de muestras de matrices complejas.
Quemador completo de titanio, combustión estable y equilibrio térmico rápido.
La tecnología del horno de grafito de calentamiento longitudinal logra una temperatura uniforme del tubo de grafito.
Sistemas de protección múltiples confiables, monitoreo de llamas en tiempo real, monitoreo y protección de fugas de acetileno, monitoreo en tiempo real de presión anormal y monitoreo de agua de refrigeración.
El sistema de atomización del horno de grafito tiene funciones de alarma por flujo insuficiente de agua de refrigeración, presión insuficiente de argón, temperatura excesiva del horno de grafito, temperatura anormal de la fuente de alimentación y mal contacto durante la instalación del tubo de grafito, y corta automáticamente el programa de aumento de temperatura para garantizar la seguridad. del proceso de operación y uso.
Modelo | SP-AA3638 | SP-AA3668 | |
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Sistema óptico | Sistema óptico | Haz único | Doble Haz |
monocromador | Tipo Czerny-Turner, distancia focal de 350 mm. | ||
Rejilla | Rejilla 1800 líneas/mm, longitud de onda de centelleo 250 nm | ||
Ancho de banda espectral (nm) | 0,1, 0,2, 0,4, 0,7, 1,4, 2 nm | ||
Selección de hendidura automatizada | |||
Rango de longitud de onda (nm) | 185-900nm | ||
Precisión de longitud de onda (nm) | 0,20 nanómetro | 0,15 nm | |
Repetibilidad de longitud de onda (nm) | ≤0,10 nm | ≤0,05 nm | |
Desviación del ancho de banda espectral | ±0,02 nm | ||
Soporte de lámpara | 8 | ||
Tipo de lámpara de elemento | Lámpara Cu, lámpara Cd (accesorio estándar) | ||
La lámpara de otro elemento es un accesorio opcional. | |||
Rendimiento fotométrico | Modo de lectura | Transmitancia, absorbancia, concentración. | |
Rango fotométrico | 0-125%, -0,1-3,00A | ||
Deriva estática de la línea base (Cu) | ±0,003 A/30 min. | ±0,003 A/30 min. | |
Deriva dinámica de la línea base (Cu) | ±0,005 A/15 min. | ±0,005 A/15 min. | |
Corrección de fondo | Lámpara de deuterio≥ 40x (1Abs), autocebante≥ 80x (1Abs) (opcional) | Lámpara de deuterio≥ 40x (1Abs), autocebante≥ 80x (1Abs) (opcional) | |
Sistema de llama | Concentración característica (Cu) | ≤0.035ug/ml | ≤0.035ug/ml |
Límite de detección (Cu) | ≤0,006 ug/ml | ≤0,004 ug/ml | |
Repetibilidad (Cu) | RSD≤0,6% | RSD≤0,5% | |
Control de flujo de acetileno | Automático de 12 niveles | ||
Control de asistencia de aire | Automático de 4 niveles | ||
Elevación del quemador | Elevación automática | ||
Cabeza del quemador | Quemador de titanio de 100 mm. | ||
Nebulizador | Nebulizador de vidrio de alta eficiencia | ||
Cámara de pulverización | Cámara de pulverización de material resistente a la corrosión | ||
Protección de seguridad | Corta automáticamente el gas en caso de baja presión, corte de energía, llama o quemador no coincidente. | ||
Horno de grafito | Cantidad característica | Cd≤0.8pg,Cu≤20pg | Cd≤0.8pg,Cu≤20pg |
Límite de detección | Cd≤1.0pg,Cu≤10pg | Cd≤0.8pg, Cu≤5pg | |
Repetibilidad (Cd) | RSD≤3% | RSD≤2,5% | |
Rango de calentamiento del horno de grafito | Temperatura ambiente-3000 ℃ | ||
Gama de calefacción de alta potencia | 1500-3000℃ | ||
Pendiente y tiempo de espera | 1s-255s | ||
Tasa de calentamiento | Velocidad máxima de calentamiento 2000°C/s | ||
Modo de calentamiento por atomización | Calefacción controlada por luz, Calefacción controlada por tiempo, Calefacción general | ||
Tubería exterior de flujo de gas protector | 1 L/min | ||
Flujo de gas protector dentro de la tubería | 4 velocidades ajustables (flujo de 0, 50, 200, 250 ml/min) | ||
Protección de seguridad | Flujo de agua de refrigeración, Presión del gas protector, Temperatura del cuerpo del horno, Temperatura de la fuente de alimentación, Alarma de instalación del horno de grafito | ||
Proceso de datos | Método de medición | Método de medición | |
Método de cálculo de la concentración | Método de cálculo de la concentración. | ||
Repetir tiempos de medición | Repetir tiempos de medición | ||
Impresión de informes | Impresión de informes | ||
Otro | Computadora | Conexión externa | |
Temperatura ambiente | 10℃-30℃ | ||
Humedad ambiental | 40%-85% | ||
Fuente de alimentación | 220V, 50/60HZ | ||
Tamaño externo (AnxPrxAl)(mm) | 830x650x560 | ||
Tamaño de envío (Ancho x Fondo x Alto) (mm) | 1000x780x810 | ||
NO/GW (kg) | 110/130 | ||
Accesorio estándar | Software, Cd Lámpara de cátodo hueco, Pipeta | ||
Accesorio opcional | Computadora, impresora, inyector automático, sistema de recirculación de agua de refrigeración |